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随着现代科学和工业的发展，材料组分和结构朝着多样化和复杂化的方向发展，传统的抛光方法往往无法有效地制备特殊的材料和样品，比如复合材料、多孔材料等。与传统抛光方法相比，氩离子抛光具有应力应变小、污染少、定位准确、操作简单和普适性等特点，使其成为材料领域内一种新型的普适性制样方法。

氩离子抛光机工作原理

氩离子抛光机是利用离子束来蚀刻固体，它基于离子轰击效应，也称为溅射，是通过高能入射离子与固体样品表面层附近的原子产生碰撞，从而去除表面原子达到抛光效果的过程。上世纪中叶，在气体放电中首次观察到溅射效应，当时被认为是一种损害阴极的有害效应，如今却被广泛应用于表面清洁、蚀刻、薄膜沉积、表面分析和溅射离子源等多种领域。如今，氩离子抛光已是应用最广泛的电子显微镜样品制备方法，在材料科学、生命科学、地质科学、电子、工业制造等热点领域可发挥重要作用。氩离子抛光一般具备两种抛光功能，截面抛光和平面抛光，其原理示意图如下。

平面抛光是利用离子束中心轴和样品台旋转中心轴之间有一定的偏心量，从而获得均一的大范围加工面。

氩离子抛光机中样品和离子枪之间放置了挡板，样品的上端略突出遮挡板，离子束从遮挡板上方照射到样品上、沿着遮挡板的边缘，加工出平坦的截面。

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