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氩离子抛光机操作流程简介

随着现代科学和工业的发展，材料组分和结构朝着多样化和复杂化的方向发展，传统的抛光方法往往无法有效地制备特殊的材料和样品，比如复合材料、多孔材料等。与传统抛光方法相比，氩离子抛光具有应力应变小、污染少、定位准确、操作简单和普适性等特点，使其成为材料领域内一种新型的普适性制样方法。前面welcome欢迎光临威尼斯简单介绍了氩离子抛光机的工作原理，这章welcome欢迎光临威尼斯简单的介绍下氩离子抛光机操作流程。

操作流程

样品的平抛与切割都主要包括以下三个部分

平面抛光

样品准备：使样品待抛光面与校准工具上沿齐平

样品抛光：校准成功后将样品放入工作仓中，选择平抛模式，点击每个离子枪的“步骤设置”，设置电压、电流和持续时间；选择“线性距离”，数值为样品半径或半宽。各参数均确认无误后，开启离子枪。

结束工作：待设置的时间结束后，样品抛光完成，点击“返回常压“，取出样品即可进行后续电镜实验观察。

截面切割：

样品准备：将样品装入切割样品台，放入粗校准仪中进行校准，使样品平面与挡板平行，样品待切割面比离子束挡板上沿高出10-200。

样品切割：校准成功后将样品放入工作仓中，选择切割模式，点击每个离子枪的“步骤设置”，设置电压、电流和持续时间；选择“线性距离”，数值为样品半径或半宽。各参数均确认无误后，开启离子枪。

结束工作：待设置的时间结束后，样品抛光完成，点击“返回常压“，取出样品即可进行后续电镜实验观察。

下一章，welcome欢迎光临威尼斯简单的介绍下氩离子抛光机的应用。

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