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氩离子抛光机

冠德ArNanoFab 100 氩离子抛光机可同时实现动态平面抛光和离子切割两种模式，无论软或硬，多孔或致密，脆性或韧性热敏感或非均质多相复合型材料，都可获得高质量的无损切割截面，配套电子显微镜、电子(离子)探针原子力显微镜等产品，实现样品无损界面制备。

核心优势

离子平面抛光和离子切割一体化技术，一套系统实现两种模式，无需复杂的切换流程，简洁方便

动态离子切割技术，实现样品的往复平移和旋转，最大切割长度达10mm，有效减少投影/遮挡效应

超大的平面抛光装载尺寸50x25mm(直径x高)，为原位实验等大尺寸样品提供可能

能量1-10kv连续可调，既可满足低能区减少非晶层，又可兼顾高能区大幅提高制样效率

应用案例

人造石墨+CNT颗粒截面特征

人造石墨颗粒截面特征

硬碳颗粒截面孔隙特征

负极极片颗粒剖面孔隙特征

人造石墨（a）和天然石墨（b）的剖面图

如上图所示，氩离子抛光加工后可得到非常平整、无损伤、真实的颗粒截面，可以清晰地观察到锂电池负极材料的真实剖面形貌，助力锂电池负极材料研究。

氩离子抛光仪在追求高质量制样的同时，兼顾产品持续更新，致力于开发出能够满足市场要求的制样设备。